डार्क ग्रे धातुई चमक टाइटेनियम ट्यूब लक्ष्य कम लोचदार मापांक

133OD*125ID*2940L शामिल निकला हुआ किनारा टाइटेनियम ट्यूब लक्ष्य टाइटेनियम Gr2 ASTM B861-06 लक्ष्य सामग्री वैक्यूम कोटिंग

लक्ष्य सामग्री के तकनीकी विकास की प्रवृत्ति डाउनस्ट्रीम अनुप्रयोग उद्योगों में फिल्म प्रौद्योगिकी के विकास की प्रवृत्ति से निकटता से संबंधित है।अनुप्रयोग उद्योगों में फिल्म उत्पादों या घटकों के तकनीकी सुधार के साथ, लक्ष्य प्रौद्योगिकी को भी तदनुसार बदलना चाहिए।सभी अनुप्रयोग उद्योगों में, सेमीकंडक्टर उद्योग में लक्ष्य स्पटरिंग फिल्मों के लिए सबसे अधिक मांग वाली गुणवत्ता की आवश्यकताएं हैं।आज 12 इंच के सिलिकॉन वेफर्स बनते हैं।इंटरकनेक्ट की चौड़ाई कम हो रही है।वेफर निर्माताओं को लक्ष्य के लिए बड़े आकार, उच्च शुद्धता, कम पृथक्करण और महीन अनाज की आवश्यकता होती है, जिसके लिए लक्ष्य को बेहतर सूक्ष्म संरचना की आवश्यकता होती है।क्रिस्टल कण व्यास और लक्ष्य की एकरूपता को फिल्म के जमाव दर को प्रभावित करने वाले प्रमुख कारकों के रूप में माना गया है।फ्लैट पैनल डिस्प्ले (एफपीडी) ने हाल के वर्षों में कैथोड रे ट्यूब (सीआरटी) आधारित कंप्यूटर मॉनिटर और टेलीविजन बाजार को बहुत प्रभावित किया है, और आईटीओ लक्ष्य प्रौद्योगिकी और बाजार की मांग को भी बढ़ावा देगा।आईटीओ लक्ष्य आज दो किस्मों में आते हैं।एक है नैनो-स्टेट इंडियम ऑक्साइड और टिन ऑक्साइड पाउडर को मिलाना और फिर सिंटर्ड करना, दूसरा इंडियम टिन मिश्र धातु लक्ष्य का उपयोग करना है।आईटीओ फिल्मों को प्रत्यक्ष वर्तमान प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग द्वारा इंडियम टिन मिश्र धातु लक्ष्य से बनाया जा सकता है, लेकिन स्पटरिंग दर लक्ष्य सतह के ऑक्सीकरण से प्रभावित होगी, और बड़े आकार के प्लेटीमेटल लक्ष्य को प्राप्त करना आसान नहीं है।भंडारण प्रौद्योगिकी के संदर्भ में, उच्च घनत्व और बड़ी क्षमता वाली हार्ड डिस्क के विकास के लिए बड़ी संख्या में विशाल अनिच्छा फिल्म सामग्री की आवश्यकता होती है।CoF ~ Cu बहुपरत मिश्रित फिल्म एक व्यापक रूप से इस्तेमाल की जाने वाली विशाल अनिच्छा फिल्म संरचना है।

मुख्य लाभ
कम घनत्व उच्च विनिर्देश शक्ति
कस्टम अनुरोध अनुकूलन
उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध
अच्छा गर्मी प्रतिरोध
उत्कृष्ट कम तापमान प्रदर्शन
अच्छा तापीय गुण
कम लोचदार मापांक