133 मिमी * 125 मिमी * 840 मिमी टाइटेनियम सीमलेस ट्यूब लक्ष्य संक्षारण प्रतिरोध

टाइटेनियम ट्यूब लक्ष्य वैक्यूम कोटिंग लक्ष्य 133OD * 125ID * 840 सीमलेस ट्यूब ASTM B861-06 a

कोटिंग लक्ष्य एक स्पटरिंग स्रोत है जो उपयुक्त तकनीकी परिस्थितियों में मैग्नेट्रोन स्पटरिंग, मल्टी-आर्क आयन प्लेटिंग या अन्य प्रकार के कोटिंग सिस्टम द्वारा सब्सट्रेट पर विभिन्न कार्यात्मक फिल्में बनाता है।इसे सीधे शब्दों में कहें, तो लक्ष्य सामग्री उच्च गति वाले आवेशित कणों की बमबारी की लक्ष्य सामग्री है।जब उच्च-ऊर्जा वाले लेजर हथियारों में उपयोग किया जाता है, तो विभिन्न शक्ति घनत्व, विभिन्न आउटपुट तरंग और लेजर के विभिन्न तरंग दैर्ध्य विभिन्न लक्ष्यों के साथ बातचीत करते हैं, विभिन्न हत्या और विनाश प्रभाव उत्पन्न होंगे।उदाहरण के लिए, बाष्पीकरणीय मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग गर्म वाष्पीकरण कोटिंग, एल्यूमीनियम फिल्म, आदि है। विभिन्न लक्ष्य सामग्री (जैसे एल्यूमीनियम, तांबा, स्टेनलेस स्टील, टाइटेनियम, निकल लक्ष्य, आदि) को बदलें, विभिन्न फिल्म सिस्टम (जैसे सुपर हार्ड) प्राप्त कर सकते हैं , पहनने के लिए प्रतिरोधी, विरोधी जंग मिश्र धातु फिल्म, आदि)
हाल के वर्षों में, फ्लैट पैनल डिस्प्ले (एफपीडी) ने कैथोड रे ट्यूब (सीआरटी) के प्रभुत्व वाले कंप्यूटर मॉनीटर और टीवी बाजार को बहुत प्रभावित किया है, जो आईटीओ लक्ष्य सामग्री की प्रौद्योगिकी और बाजार की मांग को भी बढ़ाएगा।आज दो प्रकार के आईटीओ लक्ष्य हैं।एक को नैनोमीटर अवस्था में इंडियम ऑक्साइड और टिन ऑक्साइड पाउडर को मिलाकर पाप किया जाता है, दूसरे को इंडियम टिन मिश्र धातु लक्ष्य द्वारा पाप किया जाता है।इंडियम-टिन मिश्र धातु लक्ष्यों पर प्रत्यक्ष वर्तमान प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग द्वारा आईटीओ फिल्में तैयार की जा सकती हैं, लेकिन लक्ष्य सतह ऑक्सीकरण हो जाएगी और स्पटरिंग दर प्रभावित होगी, और बड़े आकार के सोने का लक्ष्य प्राप्त करना मुश्किल है।आजकल, पहली विधि आम तौर पर एल} आईआरएफ प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग कोटिंग का उपयोग करके आईटीओ लक्ष्य सामग्री का उत्पादन करने के लिए अपनाई जाती है।इसमें तेजी से जमा करने की दर है।और फिल्म की मोटाई, उच्च चालकता, फिल्म की अच्छी स्थिरता, सब्सट्रेट के लिए मजबूत आसंजन और अन्य फायदे एल को सटीक रूप से नियंत्रित कर सकते हैं।लेकिन लक्ष्य बनाना मुश्किल है क्योंकि इंडियम ऑक्साइड और टिन ऑक्साइड एक साथ आसानी से सिन्टर नहीं होते हैं।आम तौर पर, ZrO2, Bi2O3 और CeO का उपयोग सिंटरिंग एडिटिव्स के रूप में किया जाता है, और सैद्धांतिक मूल्य के 93% ~ 98% घनत्व वाली लक्ष्य सामग्री प्राप्त की जा सकती है।इस तरह से गठित आईटीओ फिल्मों का प्रदर्शन एडिटिव्स से काफी हद तक संबंधित है।जापानी वैज्ञानिकों ने बिज़ो को एक योजक के रूप में इस्तेमाल किया, और बीआई 2 ओ 3 820 सीआर पर पिघला, और एल 500 ℃ से परे सिंटरिंग तापमान का हिस्सा अस्थिर हो गया, ताकि तरल चरण सिंटरिंग स्थितियों के तहत अपेक्षाकृत शुद्ध आईटीओ लक्ष्य प्राप्त किया जा सके।और ऑक्साइड कच्चा माल जरूरी नैनोकण नहीं है, जो प्रारंभिक प्रक्रिया को सरल बना सकता है।चुआन जैसे लक्ष्यों का उपयोग करके प्राप्त आईटीओ फिल्म की प्रतिरोधकता 8.1 × 10 एन-सेमी है, जो शुद्ध आईटीओ फिल्म की प्रतिरोधकता के करीब है।FPD और कंडक्टिव ग्लास का आकार काफी गर्म होता है, और कंडक्टिव ग्लास की चौड़ाई 3133_ तक भी पहुंच सकती है।लक्ष्य की उपयोगिता दर में सुधार करने के लिए, बेलनाकार जैसे विभिन्न आकारों के आईटीओ लक्ष्य विकसित किए गए हैं।2000 में, राज्य विकास योजना आयोग और विज्ञान और प्रौद्योगिकी मंत्रालय ने वर्तमान विकास के लिए प्राथमिकता के साथ सूचना उद्योग के प्रमुख क्षेत्रों की मार्गदर्शिका में आईटीओ के बड़े लक्ष्य शामिल किए।

विशेषताएं

1. कम घनत्व और उच्च शक्ति
2. ग्राहकों द्वारा आवश्यक चित्रों के अनुसार अनुकूलित
3. मजबूत संक्षारण प्रतिरोध
4. मजबूत गर्मी प्रतिरोध
5. कम तापमान प्रतिरोध
6. गर्मी प्रतिरोध